6.22 HD (首款oppo a-si Notc技术支持FAE
项目描述:
O公司首款a-si Notch全面屏项目。对于O公司以及天马公司而言,首次采用激光U形切割工艺(对比友商的研磨工艺),有效提升产能;前期试投并量产执行了内切 内凹方案,同步验证内切 非内凹方案;有效验证切割方式与U形拨片手法的相互对应,并使得Notch激光工艺水准得到有效提升。
项目职责:
1、明确客户对Notch全面屏的激光切割工艺水准核查要求;
2、主导团队完成结构、电性、可靠性验证等设计任务,并安排各项客需样品执行;
3、明确各阶段项目技术状态并汇总客户端不良;
4、主导客户端各阶段Issue不良分析与方案解决。
项目业绩:
1、推动改善Notch激光工艺水准;Chipping 漏液黑团不良,由2000 PPM 下降到300ppm;
2、明确ESD验证以及改善;ESD 8KV IC 异常不良,提升到16KV水准并表现正常;